來(lái)源：網(wǎng)絡(luò) 2012-8-5 關(guān)鍵詞：工業(yè)自動(dòng)化 極紫外線檢測(cè) 光學(xué)儀器　　據(jù)英國(guó)《自然》雜志網(wǎng)站7月25日(北京時(shí)間)報(bào)道，芯片制造商英特爾公司表示，將向總部設(shè)在荷蘭的半導(dǎo)體設(shè)備制造商阿斯麥投資41億美元，其中10億美元專門用于極紫外線(EUV)光刻技術(shù)的研發(fā)，新技術(shù)有望讓晶體管的大小縮減為原來(lái)的1/4。　　一塊芯片能容納的晶體管數(shù)量每隔幾年就可以翻番，但這一趨勢(shì)目前似乎已到