【ZiDongHua 之“會(huì)展賽培壇”收錄關(guān)鍵詞：璞璘科技 SiC 光電博覽會(huì) 】
　　
　　璞璘科技誠(chéng)邀您參加第26屆中國(guó)國(guó)際光電博覽會(huì)
　　
　　2025
　　
　　INVITATION·WELCOME YOU
　　
　　第26屆中國(guó)國(guó)際光電博覽會(huì)
　　
　　2025年9月10-12日
　　
　　INVITATION邀請(qǐng)您
　　
　　第26屆中國(guó)國(guó)際光電博覽會(huì)即將拉開(kāi)序幕，本次展會(huì)璞璘科技將帶來(lái)中國(guó)首臺(tái)半導(dǎo)體級(jí)納米壓印光刻技術(shù)方案。針對(duì)SiC襯底刻蝕AR衍射光波導(dǎo)應(yīng)用的納米壓印設(shè)備、材料和工藝的閉環(huán)解決方案，以及對(duì)光學(xué)為應(yīng)用的各類其他產(chǎn)品和服務(wù)。在此誠(chéng)摯地邀請(qǐng)您蒞臨現(xiàn)場(chǎng)洽談、交流、合作。
　　
　　01展位介紹
　　
　　會(huì)期：2025年9月10日～9月12日
　　
　　會(huì)場(chǎng)：深圳國(guó)際會(huì)展中心（寶安）
　　
　　展位號(hào)：2B111／2號(hào)館
　　
　　02產(chǎn)品介紹
　　
　　PL-SR 噴墨步進(jìn)式納米壓印系統(tǒng)
　　
　　PL-SR系列是一款步進(jìn)式的納米壓印系統(tǒng)，其壓印方式采用板對(duì)板壓印方式，具備自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的模板面型控制和動(dòng)態(tài)貼合系統(tǒng)，大大減少了壓印過(guò)程中的缺陷。該系統(tǒng)搭載高精度噴墨打印系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)≤士1um的高精度對(duì)位功能，具備精確的殘余層控制能力以及高精度的模板拼接能力。
　　
　　PL-SR可實(shí)現(xiàn)最大12英寸晶圓的拼板功能，在光學(xué)和半導(dǎo)體領(lǐng)域有巨大的應(yīng)用前途。
　　
　　PL-A 真空氣壓式納米壓印系統(tǒng)
　　
　　PL-A 納米壓印系統(tǒng)是一款量產(chǎn)型的氣壓式納米壓印設(shè)備最大兼容300mm直徑的晶圓。其極具特色的脫模工藝可適用于多種變周期結(jié)構(gòu)和多方向結(jié)構(gòu)。
　　
　　柔性復(fù)合工作模具結(jié)合氣壓式壓印方式可保證整個(gè)晶圓表面壓力具有極高的均勻性:特殊工藝條件下可實(shí)現(xiàn)零殘余層的納米壓印。此外，這種特色的壓印方式還支持曲面壓印工藝。PL-A非常適應(yīng)于半導(dǎo)體、光學(xué)、生物檢測(cè)等領(lǐng)域的微納結(jié)構(gòu)加工制造，具有大吞吐量和低成本的優(yōu)勢(shì)。
　　
　　PL-P 硬對(duì)硬納米壓印系統(tǒng)
　　
　　PL-P是一款硬對(duì)硬納米壓印系統(tǒng)，該系統(tǒng)具備高精度調(diào)平系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)<0.5um@8inch精度的調(diào)平，同時(shí)具備<士1um的對(duì)位精度。
　　
　　硬對(duì)硬納米壓印系統(tǒng)具備高吞吐量和低成本的優(yōu)點(diǎn)，非常適合批量生產(chǎn)較大結(jié)構(gòu)尺寸的microlens等光學(xué)器件。PL-P為滿足硅片等不透光襯底的雙面套刻功能，可定制紅外光源相機(jī)或者增加背部相機(jī)，以滿足硅透鏡等產(chǎn)品的對(duì)位需求。
　　
　　璞璘科技全系列納米壓印材料
　　
　　03展會(huì)地址
　　
　　璞璘科技(杭州)有限公司成為立于2017年,是一家致力于成為全球知名的納米壓印高端制造商。創(chuàng)始團(tuán)隊(duì)深耕納米壓印技術(shù)行業(yè)二十五年，擁有超過(guò)十名博士學(xué)位的研發(fā)團(tuán)隊(duì)，是目前國(guó)內(nèi)最具特色的納米壓印技術(shù)團(tuán)隊(duì)。
　　
　　我們誠(chéng)摯邀請(qǐng)您蒞臨深圳國(guó)際會(huì)展中心2號(hào)館111展位，與璞璘科技一起探索無(wú)限可能。期待與您在深圳相聚！